일본 글로벌 전자대기업인 도시바(Toshiba)에 따르면 슈퍼차지 이온배터리(SCiB)를 제조할 두 번째 생산시설의 건설한다고 발표했다. 미래의 강력한 수요를 예상했기 때문이다. 

관련 시설은 요코하마에 위치하며 투자금액은 ￥162억엔($약 1억 4,300만 달러)에 달한다. 2019년 7월 건설을 시작해 2020년 10월부터 운영할 예정이다. 

일본 히타치금속에 따르면  싱가포르 제조기술연구소(Singapore Institute of Manufacturing Technology )와 적층 가공 공동연구소인 SIMTech-Hitachi Metals Additive Manufacturing를 설립했다.

히타치금속은 2017년 4월 설립된 새로운 기업연구기관인 GRIT(Global Research and Innovative Technology Center)에서 적층 가공에 사용되는 금속 적층 가공기술 및 금속 분말의 연구개발을 수행해온 것으로 알려졌다.

일본 r글로벌 전자제조업체인 후지쯔(Fujitsu)에 따르면 양자 기반 컴퓨팅 프로젝트를 수행할 계획이다. 디지털 어닐러(Quantum-inspired Digital Annealer) 기술을 이용해 NatWest의 복잡한 재무 위험의 최적화 문제를 해결하기 위한 목적이다.

NatWest와 같은 금융기관은 수 천가지 옵션 중에서 선택되는 균형 잡힌 최적의 자산 포트폴리오를 만들고 유지 관리하기 위한 지속적인 도전에 직면해 왔다.

▲ 후지쯔의 디지털 어닐러 홍보 이미지(출처 : 홈페이지)